TY  - THES
AU  - Prado Millán, Álvaro Del
A3  - Mártil de la Plaza, Ignacio
PY  - 2004
DO  - b21877397
SN  - 978-84-669-1753-7
UR  - https://hdl.handle.net/20.500.14352/55189
AB  - En este trabajo se estudia el depósito de películas delgadas de SiOxNyHz mediante la técnica de plasma de resonancia ciclotrónica de electrones (ECR-PECVD), utilizando SiH4, O2 y N2 como gases precursores, así como las propiedades de dichas películas...
LA  - spa
PB  - Universidad Complutense de Madrid, Servicio de Publicaciones
KW  - Electrones Electrónica
TI  - Depósito de películas de SiOxNyHz mediante la técnica ECR-PECVD, caracterización y estabilidad térmica
M3  - doctoral thesis
ER  -