TY  - JOUR
AU  - Martil De La Plaza, Ignacio
AU  - González Díaz, Germán
AU  - Prado Millán, Álvaro Del
AU  - San Andrés Serrano, Enrique
PY  - 2004
SN  - 0366-3175
UR  - https://hdl.handle.net/20.500.14352/51122
T2  - Boletín de la Sociedad Española de Cerámica y Vidrio
AB  - Se han fabricado estructuras MIS sobre Si (100) mediante un proceso en dos pasos: una primera exposición del sustrato de Si a un plasma ECR de oxígeno, que da lugar a la obtención de una capa de SiOx (en adelante PO-SiOx), seguido de un depósito de...
AB  - MIS structures have been fabricated on Si (111) by a two-step process: first an exposition of the Si substrates to an ECR oxygen plasma was performed, which yields a layer of SiOx (in the following PO-SiOx); this process was followed by an ECR plasma...
LA  - spa
M2  - 379
PB  - Sociedad Española de Cerámica y Vidrio
KW  - Plasma ECR
KW  - Oxidación por Plasma
KW  - Subóxido de Si
KW  - Dieléctrico Apilado .
KW  - Gate Dielectrics
KW  - Films
KW  - Defects
KW  - Spectroscopy
KW  - Density
KW  - System.
TI  - Procesos de oxidación de Si mediante plasma de resonancia ciclotrónica de electrones
T2  - Si oxidation processes by electron cyclotron resonance plasmas
TY  - journal article
VL  - 43
ER  -