RT Generic
T1 Estudio de tecnologías de oxidación de láminas delgadas de gadolinio metálico para su aplicación como aislante de puerta en MOSFETs
A1 Pampillón Arce, María Ángela
YR 2010
FD 2010
LK https://hdl.handle.net/20.500.14352/46700
UL https://hdl.handle.net/20.500.14352/46700
LA spa
NO Máster en Física Aplicada. Facultad de Ciencias Físicas. Curso 2009-2010
DS Docta Complutense
RD 5 abr 2025