TY  - THES
AU  - Campillo Iglesias, Bruno
A3  - San Andrés Serrano, Enrique
A3  - Feijoo Guerro, Pedro Carlos
PY  - 2012
UR  - https://hdl.handle.net/20.500.14352/46477
AB  - Los principales temas estudiados en el presente proyecto son:Evolución de estructuras multi-capa GD_2O_3/SC_2O_3, depositadas por High Pressure Sputtering (HPS), tras ser tratadas con Forming Gas Anneling (FGA) en películasdieléctricas, amorfas y...
LA  - spa
KW  - Dieléctricos de Alta K
KW  - Metal de Puerta
KW  - Estructuras MIS
KW  - Transistores
KW  - MOSFET
KW  - Escalado
KW  - Curvas C-V
KW  - Fotolitografía Positiva
KW  - HPS
KW  - FGA
KW  - Películas no Conformes
KW  - High-K Dielectrics
KW  - Gate Metal
KW  - MIS Structures
KW  - MOSFET Transistors
KW  - Scaling
KW  - C-V Curves
KW  - Positive Photolithography
KW  - Non-conformal films.
TI  - Estudio del efecto de diferentes electrodos metálicos enestructuras MOS con dieléctrico de puerta de alta-K (Study of the effect of different metallic electrodes on high-Kdielectric MOS structures)
M3  - master thesis
ER  -