Estudio de tecnologías de oxidación de láminas delgadas de gadolinio metálico para su aplicación como aislante de puerta en MOSFETs

San Andrés Serrano, EnriquePampillón Arce, María Ángela2023-06-202023-06-202010https://hdl.handle.net/20.500.14352/46700Máster en Física Aplicada. Facultad de Ciencias Físicas. Curso 2009-2010spaEstudio de tecnologías de oxidación de láminas delgadas de gadolinio metálico para su aplicación como aislante de puerta en MOSFETsmaster thesisopen access537Dieléctricos de Alta-kDispositivos MOSMOSFETsÓxido de GadolinioHigh-k DielectricsMOS DevicesGadolinium OxideFísica (Física)Electrónica (Física)22 Física