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Contribución al estudio de la oxidación térmica del silicio y su aplicación a la microelectrónica

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dc.contributor.authorLora-Tamayo D'Ocon, Amelia
dc.date.accessioned2023-06-19T21:57:59Z
dc.date.available2023-06-19T21:57:59Z
dc.date.defense1984
dc.date.issued2015
dc.descriptionTesis Univ. Complutense de Madrid, 1982.
dc.description.departmentDepto. de Estructura de la Materia, Física Térmica y Electrónica
dc.description.facultyFac. de Ciencias Físicas
dc.description.refereedTRUE
dc.description.sponsorshipProQuest
dc.description.statuspub
dc.eprint.idhttps://eprints.ucm.es/id/eprint/53165
dc.identifier.doi5309867188
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.14352/40663
dc.language.isospa
dc.page.total252
dc.publication.placeMadrid
dc.publisherUniversidad Complutense de Madrid
dc.rights.accessRightsopen access
dc.subject.cdu537+621.38
dc.subject.keywordElectrónica
dc.subject.keywordElectricidad
dc.subject.ucmFísica (Física)
dc.subject.unesco22 Física
dc.titleContribución al estudio de la oxidación térmica del silicio y su aplicación a la microelectrónica
dc.typedoctoral thesis
dspace.entity.typePublication

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